Вольфрамовый лист 4х100х2000 мм ВА в Химках

Пластичность листа ВА значительно возрастает при нагреве до 1800°С. Эта температура превышает температуру хрупко-вязкого перехода вольфрама, что позволяет проводить эффективную высокотемпературную формовку и обработку материала.

Избирательную коррозию вольфрамового листа могут вызвать горячие концентрированные окислительные кислоты (азотная, серная), галогены (хлор, фтор, йод) при повышенных температурах, а также расплавленные щелочи. Эти среды способствуют образованию растворимых или летучих соединений вольфрама.

Поверхностная обработка, такая как полировка или травление, критически влияет на применение листа ВР-27ВП в качестве подложки. Она обеспечивает необходимую чистоту, плоскостность и шероховатость поверхности для равномерного осаждения пленок и адгезии, что важно для полупроводниковой и оптической промышленности.

Преимущества применения вольфрамового листа в качестве мишеней для ионной имплантации заключаются в его высокой плотности, высоком атомном номере и высокой температуре плавления. Эти свойства обеспечивают эффективное торможение ионов, минимизируют распыление и позволяют работать с высокими токами.

Лист ВР-20 демонстрирует высокую стойкость к длительному контакту с расплавленной медью. Вольфрам и сплавы с рением имеют крайне низкую растворимость в меди, что минимизирует эрозию и диффузию, обеспечивая стабильность материала в таких условиях.

Соответствие листа ВА требованиям к содержанию примесей проверяется методами химического анализа. Применяются спектральные методы (атомно-эмиссионный, рентгенофлуоресцентный) для определения металлических примесей и метод термического разложения для определения содержания кислорода, азота и водорода.

Состав листа ВА, особенно его чистота и отсутствие примесей, влияют на устойчивость к нейтронному излучению. Чистый вольфрам обладает высоким сечением захвата нейтронов, а допированные марки ВА могут демонстрировать лучшую сопротивляемость радиационному охрупчиванию.